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如何根据应用选择本公司溅射镀膜仪或蒸镀仪



应用

设备

特点

1

表面镀贵金属用于薄膜研究(<2”

3靶等离子溅射镀膜仪VTC-16-3HD

同一腔室中3靶头用于贵金属的溅射镀膜

2

表面镀各种金属用于薄膜研究(<2”

小型等离子磁控溅射镀膜仪VTC-16-SM

磁控溅射镀膜

最大溅射电流可达150mAƒ可用于溅射各种轻金属如Al,  Sn, Zn 等

3

表面镀绝大多数的金属或无机非金属材料薄膜(<2”

精密温控高真空蒸发镀膜仪GSL-1700X-SPC-2

高真空蒸发镀膜仪

蒸镀温度从200-1500℃(或选配B型热电偶,蒸镀温度可从1200-1700℃

4

表面镀氧化物薄膜(<2”

1英寸或2英寸300W射频等离子磁控溅射仪VTC-2RF


低成本

射频电源

5

各种材料表面进行光学涂层(多晶)(<4”

超高真空4蒸发舟蒸发镀膜仪GSL-1800-ZF4

分子泵高真空

4个蒸镀加热舟

6

金属及无机非金属氧化物薄膜的外延生长(<4”

DC/RF双靶头高真空等离子磁控溅射镀膜仪VTC-600-2HD

配备有直流以及射频电源,分子泵

可用于各种材料薄膜的外延生长

ƒ同时配备测厚仪实时监控薄膜厚度


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